Sedan länge har Intel ansetts ligga i täten med nya tillverkningstekniker, men den bilden är på väg att förändras. Kontraktstillverkarna Globalfoundries, Samsung och TSMC skyndar för att komma ikapp och gå om Intel, där Samsung i dagsläget är först ut med att tillverka kommersiella kretsar på 10 nanometer.

Under en konferens meddelar TSMC att bolagets första kretsar på 10 nanometer levereras första kvartalet 2017. Tekniken ska primärt används för mobila kretsar och för högre presterande, som exempelvis grafikkretsar, gäller 7 nanometer, där räknar bolaget med att gå in i produktion första kvartalet 2018.

Likt 16 nanometer ska TSMC vidareutveckla och förbättra 7-nanometerstekniken med tiden. Hur många iterationer som planeras framgår inte, men bolaget räknar med att börja använda Extreme Ultraviolet Litography (EUV) för åtminstone en variant. Fördelen med tekniken är att den möjliggör för färre litografiska steg vid tillverkning, något som ska dra ned kostnaderna.

Nästföljande steg blir 5 nanometer där EUV ska vara fullt implementerad och användas genomgående i tillverkningen. Tekniken beräknas gå in i riskproduktion under första kvartalet 2019, vilket bör innebära att den kommersialiseras till början av nästföljande år.

Källa: Digitimes