#euv

Intel om framtiden för 10 och 7 nanometer – mer konservativa mål

Intels 10-nanometersteknik skulle ha lanserats 2015, men för högt ställda mål försenade detta till 2019. Framtida mål ska enligt bolaget vara mer konservativa för att kunna nås i tid.

Samsung certifierar verktyg för 5 nanometer

Efter 7 nanometer blir nästa stor teknikkliv 5 nanometer och Samsung är på god väg. Nu meddelas att verktygen för den nya tillverkningstekniken är certifierade och redo.

Intel avslöjar tillverkningstekniska planer – 7 nanometer redo till år 2021

För första gången på flera år talar Intel öppet om sina planer på tillverkningssidan. Problembarnet 10 nanometer får om redan två år sällskap av 7 nanometer – med Xe-grafikkort för datacenter.

Samsung färdigställer 5 nm med EUV – Intels grafikchef kommer på besök

Samsung färdigställer sin 5 nanometers-teknik för testtillverkning, med fördelar som upp till 25 procent högre densitet. Samtidigt kommer Intels grafikchef Raja Koduri på besök.

TSMC går in i produktion på 7 nanometer för nästa generations grafikkort och Iphone

Lagom till lanseringen av Apples nästa generations Iphone inleder TSMC storskalig produktion på 7 nanometer, som dessutom ska användas för högpresterande lösningar som grafikkort.

Intel riktar blickarna mot 7 nanometer

Halvledarjätten Intel har nyligen introducerat Broadwell på 14 nanometer och är på god väg mot 10 nanometer. Under IDF riktas blickarna mot avlägsna 7 nanometer, där ekonomi snarare än tekniska problem kan sätta stopp för tekniken.

Kretstillverkning med wafers på 450 millimeter senareläggs – till 2023

Låg utnyttjandegrad lämnar inte enbart en fabrik tom hos Intel, utan sätter käppar i hjulen för hela halvledarindustrin och utvecklingen av wafers i 450 millimeter.