AMD testar 22 nanometer

Ursprungligen inskrivet av multimiffo
nm-talet indikerar den minsta geometri som kan tillverkas i processen, oftast kanallängden på transistorer (området mellan Source och Drain).

Precis som många påpekat så handlar uttalandet om ett framsteg inom EUV-lithografi och inte om en 22nm prototyp. Dessutom är det tydligen bara det lägsta metallagret som tillverkats med den nya tekniken. All övrig geometri är tillverkad med 193-nm ljus enligt AMD:s 45:nm process.

Roligt att de lyckats med den nya EUV-tekniken. Jag undrar hur lätt det är att bygga linser och annan optik för den våglängden...