Intel avtäcker tillverkningstekniken 10nm Superfin

Mjölka sönder verkligen blir kämpigt för Intel

@The man swe 90: Instämmer helt.

Releasedatumet för Tiger Lake är ju satt till 2/9, så det blir verkligen ett spännande månadsskifte med Nvidias release-event den 31/8! Dags att börja ladda för att uppgradera min i7-8086K till något modernare!

ZING! pam-PAM pam-PAM!

Detta med hur många nm tillverkningsprocess man har har ju redan gått över styr. 7nm är inte 7nm osv. Så det handlar kanske mer om ifall detta faktiskt betyder någon fördel i form av fler transistorer på kislet, lägre energiförbrukning, högre frekvenser osv.

@Mithras: Erkänn att du är avis att du inte var först med att posta detta.

"Damn girl, du är superfin."

Det blir nog ändå ett tillfälle att utvärdera vad 10nm SuperFin har att erbjuda kombinerat med arkitekturen Willow Cove, och det finns indikationer på att Rocket Lake kommer att rullas ut i närtid också.

Precis!

With the introduction of FinFET by Intel in their 22 nm process, the transistor density continued to increase all while the gate length remained more or less a constant. This is due to the properties of FinFET; for example the effective channel length is a function of the new fins (Weff = 2 * Hfin + Wfin). Due to how the transistor changed dramatically from how it used to be, the current naming scheme lost any meaning.

Källa: https://en.wikichip.org/wiki/technology_node

Node storlek refererade tidigare till främst gate length och M1 half-pitch, men blev runt 2017 mer an beskrivning av teknikutveckling och sen även ++++++++++++++++++++ i namnet.

Så....Intel förbättar den tekniken de anklagas ha stulit från Kinas vetenskapsakademi?

https://www.sweclockers.com/nyhet/30108-intel-anklagas-for-fi...

Skämt o sido: Intel har mycket bra tekniker. Låt oss hoppas att detta inte påverkar deras roadmap alltför negativt.

... även fast du är FET.

Bättre namn än finFET

Jag har tyvärr själv lite för mycket bukfett

Lite historia runt FinFET så det står klart att Intel inte var skaparna av FinFET.

Den första FinFET'en framställdes redan för 30-år sedan av Hitachi, men då hette den DELTA.
"Depleted Lean-channel Transistor" = "DELTA"

Det väckte intresse hos DARPA som finansierade forskning runt DELTA

Första omnämnandet av DELTA under namnet FinFET skedde i ett DARPA finansierat forskningspapper år 2000:
FinFET-a self-aligned double-gate MOSFET scalable to 20 nm

Dom flesta framsteg på halvledarfronten sker på universitet och högskolor världen över, uppgiften som teknikföretagen har är att implementera forskningen i kommersiella produkter.

Inga siffror presenterade på förbättringarna

Intels marknadsavdelning döper om 10nm+ till superfin nu när intel haft det motigt med sina noder.
Jag hade varit mer intresserad av vilka yields de åstadkommer, utan den informationen ser inte jag processen som superfin.

AMD har ju inte ens någon 7nm, det är TSMCs process. Oavsett så är det som flera redan nämnt i tråden, man mäter olika saker när man kallar TSMCs process för 7nm och Intels för 14nm. Intel kunde lika gärna ha "krympt" den 1nm per + och kallat den för 9nm nu.

Det låter bra, men 14nm-tekniken har fortfarande många plus.

Det finns mycket som styr prestandan i en transistor såklart men 7, 10, 14nm osv syftar på gate längden vilket brukar var den kortaste strukturen i en transistor.