Dopning
En färdig krets består av flera lager i en tredimensionell struktur. Med fotolitografins hjälp etsas varje lager in i kiselplattan
Vissa lager kräver dock specialbehandling – dopning. Det innebär att kemiska orenheter förs in i kislet för att förändra de elektriska egenskaperna. Detta är nödvändigt för att skapa transistorer.
En dopningsmetod som Intel använder kallas för jonimplantat. Här bombarderas kiselplattan med joner som rör sig i mycket hög hastighet (300 000 km/h). De delar som inte ska dopas skyddas återigen av ett lager fotoresist.
